1) 基于電離電荷的采樣技術(shù)。儀器均采用基于電離電荷的采樣技術(shù)。我公司專(zhuān)家在磁控放電的研究中發(fā)現(xiàn)：在外激勵(lì)電源、真空滅弧室的幾何尺寸、所用材料一定時(shí)，真空滅弧室內(nèi)的真空度與電離的電荷量有非常準(zhǔn)確的對(duì)應(yīng)關(guān)系，而與電離電流的峰值僅有概率上的相關(guān)間接關(guān)系。因此，我公司首創(chuàng)了基于電離電荷的采樣技術(shù)，顯著提高了真空滅弧室的真空度計(jì)量的準(zhǔn)確性。

2) 高低壓管型測(cè)試。本機(jī)另外對(duì)測(cè)試電壓輸出應(yīng)用了兩個(gè)檔位(高壓3萬(wàn)低壓2.5)，因此可對(duì)高低壓不同的各類(lèi)管型時(shí)行有效測(cè)試。

3) 內(nèi)置國(guó)內(nèi)外幾乎所有真空滅弧室的測(cè)量曲線。真空滅弧室由于其幾何尺寸、材料的不同，當(dāng)內(nèi)部真空度和外加激勵(lì)電源一定時(shí)，其放電電荷量是不同的，并且有相當(dāng)?shù)牟町?。為?zhǔn)確測(cè)量，對(duì)每一種真空滅弧室必須有對(duì)應(yīng)的從電離電荷量到真空度推算曲線。我公司的專(zhuān)家通過(guò)與國(guó)內(nèi)主要真空滅弧室生產(chǎn)廠家的密切合作，取得了幾乎國(guó)內(nèi)外所有真空滅弧室的電離電荷和真空度關(guān)系的數(shù)據(jù)，通過(guò)數(shù)學(xué)處理，將其特征參數(shù)送入本系列產(chǎn)品。因此，本系列產(chǎn)品內(nèi)置國(guó)內(nèi)外幾乎所有真空滅弧室的測(cè)量曲線。這是國(guó)內(nèi)外同類(lèi)產(chǎn)品中絕無(wú)僅有的。

4) 漏電電流的處理。對(duì)處于分?jǐn)酄顟B(tài)的真空滅弧室動(dòng)觸頭加高壓靜觸頭端加負(fù)離子電流時(shí)，靜觸頭端會(huì)有數(shù)值不等的幾個(gè)微安的漏電電流，此漏電電流即使是同型號(hào)的真空滅弧室也有較大的個(gè)體差異。尤其是對(duì)于裝在整機(jī)上的真空滅弧室，由于其周邊的絕緣支撐件也有漏電，這些漏電的總和有更大的不穩(wěn)定性和不可預(yù)測(cè)性。并且在數(shù)值上與10E—4Pa數(shù)量級(jí)的真空滅弧室的電離電流相當(dāng)。我們采用二次起動(dòng)高壓的方法，扣除了漏電電流，保證了無(wú)論是裝于整機(jī)上還是待裝的真空滅弧室的真空計(jì)量精度。

5) 判別完全漏氣的真空滅弧室。在本型機(jī)中，通過(guò)高壓擊穿的方式判別真空滅弧室是否完全漏氣。

6) 完善的輸入保護(hù)電路。當(dāng)真空滅弧室的真空度非常低時(shí)，測(cè)量時(shí)真空滅弧室會(huì)被高壓擊穿，瞬間的高壓直接加至負(fù)離子電流采樣電路上，使其承受十分強(qiáng)的電沖擊。采樣電路增加了完備的保護(hù)電路，即使儀器由于輸入端的高壓直接加到負(fù)離子電流采樣端居第一時(shí)間，微電腦保護(hù)裝置會(huì)立即起控，使其進(jìn)入保護(hù)狀態(tài)，就不會(huì)造成電路嚴(yán)重的損壞。

7) 數(shù)據(jù)記錄。內(nèi)設(shè)微型打印機(jī)，可隨時(shí)打印出被測(cè)數(shù)據(jù)。